Especificaciones
| Formato de datos |
Digital: cuadratura RS422
Analógico: 1 Vpp seno / coseno |
| Resolución |
Digital: seleccionable por el usuario a 20 nm (con óptica de objetivo retrorreflector)
Analógica: sub-nanómetro mediante interpolación externa (p.ej., interfaz paralela RPI20) |
| Velocidad máxima |
2 m/s (cuando se utiliza la óptica de objetivo retrorreflector) |
| Tipo de láser |
HeNe (Helio / Neón), longitud de onda NTP 632.8 nm, Clase II |
| Estabilidad de frecuencia láser |
±50 ppb (RLU10) sobre un período de una hora
±2 ppb (RLU20) sobre un período de una hora |
| Duración del láser |
>50.000 horas |
| Longitud máxima del eje |
4 m (cuando se utiliza la óptica de objetivo retrorreflector) |
En aplicaciones sin vacío, se requiere algún tipo de compensación de índice de refracción para mantener la precisión en condiciones ambientales fluctuantes. Renishaw proporciona un sistema de compensación de cuadratura en tiempo real RCU10 para compensar estas variaciones.
Es posible obtener resoluciones de 38,6 picómetros integrando una interfaz paralela RPI20 en el sistema RLE (configuración de espejo plano). Para obtener resoluciones mayores con salida digital, la gama REE de interpoladores Renishaw puede ofrecer resoluciones hasta 0,395 nm (configuración de espejo plano). Esta interfaz acepta señales analógicas de diferencial con 1 Vpp de seno / coseno y genera una salida en formato paralelo. Para más información sobre el sistema de compensación RCU10, el sistema RPI20, REE y otros equipos auxiliares utilizados con los sistemas RLE, consulte Accesorios.
Los sistemas RLE lineales se componen de una unidad RLU láser y generalmente, de cabezales detectores RLD10 configurados para su uso con ópticas objetivos de retrorreflector. La elección de la unidad láser depende en gran manera del entorno de funcionamiento, siendo la unidad RLU20 especialmente apropiada para entornos controlados de vacío. Las unidades láser RLU10 se utilizan con los sistemas RLE10 y las unidades láser RLU20 con los sistemas RLE20.