Especificaciones
| Formato de datos |
Digital: cuadratura RS422
Analógico: 1 Vpp seno / coseno |
| Resolución |
Digital: seleccionable por el usuario a 10 nm (con óptica de objetivo espejo plano)
Analógica: sub-nanómetro mediante interpolación externa (p.ej., interfaz paralela RPI20) |
| Velocidad máxima |
1 m/s (cuando se utiliza la óptica de objetivo de espejo plano) |
| Tipo de láser |
HeNe (Helio / Neón), longitud de onda NTP 632.8 nm, Clase II |
| Estabilidad de frecuencia láser |
±50 ppb (RLU10) sobre un período de una hora
±2 ppb (RLU20) sobre un período de una hora |
| Duración del láser |
>50.000 horas |
| Longitud máxima del eje |
1 m (cuando se utiliza la óptica de objetivo de espejo plano) |
En aplicaciones sin vacío, se requiere algún tipo de compensación de índice de refracción para mantener la precisión en condiciones ambientales fluctuantes. Renishaw proporciona un sistema de compensación de cuadratura en tiempo real RCU10 para compensar estas variaciones.
Es posible obtener resoluciones de 38,6 picómetros integrando una interfaz paralela RPI20 en el sistema RLE. Esta interfaz acepta señales analógicas de diferencial con 1 Vpp de seno / coseno y genera una salida en formato paralelo. Para más información sobre el sistema de compensación RCU10, el sistema RPI20 y otros equipos auxiliares utilizados con los sistemas RLE y la regla láser de largo alcance HS10, consulte Accesorios.
Los sistemas RLE X-Y (planares) se componen de una unidad láser RLU de doble eje y dos cabezales detectores configurados para ópticas de objetivo de espejo plano. La elección de la unidad láser depende en gran manera del entorno de funcionamiento, siendo la unidad RLU20 especialmente apropiada para entornos controlados de vacío. Las unidades láser RLU10 se utilizan con los sistemas RLE10 y las unidades láser RLU20 con los sistemas RLE20.