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Interferómetro diferencial RLD10

Los interferómetros diferenciales pueden realizar mediciones relativas a una referencia definida.

El cabezal diferencial tiene un diseño de esquema óptico exclusivo que permite obtener un rendimiento con bajo SDE. Los alineadores del haz láser integrados permiten un ajuste de ladeo y cabeceo durante el reglaje para mejorar el proceso de alineación (solo para aplicaciones de espejo plano).

El diseño del cabezal detector RLD10-X3-DI permite fijarlo a la pared exterior de una cámara de procesamiento con tres sencillas clavijas de sujeción. No es necesario entrar a la cámara para alinear el cabezal detector, ya que el alineador integral del haz permite ajustar independientemente el ladeo y el cabeceo del haz de referencia y el de medición, mientras que el diseño del sistema de montaje permite retirar y volver a poner el cabezal con una alteración mínima de la alineación del sistema.

Características y ventajas

  • Metrología excepcional: estabilidad de frecuencia ppb y error cíclico ultrabajo, que consigue unas resoluciones de salida de 38,6 pm.
  • Configuraciones diferenciales: mide la posición relativa de la plataforma respecto a la columna, por tanto, elimina errores de modo habituales, como el desplazamiento del flanco de la cámara asociado a las fluctuaciones ambientales.
  • Alineación rápida: alineación sencilla desde el exterior de la cámara de vacío mediante cuatro alineadores del haz integrados para compensar las tolerancias de montaje del espejo y la cámara.

Especificaciones 

Recorrido del eje0 m - 1 m
Resolución (resolución configurada con RLU)Cuadratura analógica= λ/4 (158 nm)
Cuadratura digital= 10 nm
Resolución de RPI20= 38,6 pm

Error de no-linealidad del sistema* (SDE)

*no incluye la interfaz

<±1 nm por debajo de 50 mm/seg. con >70% de intensidad de señal
<±6 nm a 1 m/seg. con >50% de intensidad de señal
Velocidad máximaHasta 1 m/s
El cabezal detector de interferómetro diferencial se configura generalmente en la unidad RLU20 de Renishaw. La combinación de la alta estabilidad de la fuente láser de RLU20 y el rendimiento de cabezal de interferómetro diferencial es la elección perfecta para mediciones en cámaras de vacío y otros entornos estrictamente controlados.

Información sobre el producto